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      德國新帕泰克將于6月21日-23日參加上海第十一屆世界制藥原料中國展

      發布日期: 2011-06-19
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      “第十一屆世界制藥原料中國展”(CPhI, ICSE & BioPh China 2011)暨“2011世界制藥機械、包裝設備與材料中國展”(P-MEC China 2011)將于2011年6月21日至23日上海新博覽中心舉辦

      公司展位號E1C05,屆時將攜干濕二合一激光粒度儀HELOS/OASIS(測試范圍0.1-3500μm)、動態粒度粒形分析儀QICPIC(測試范圍1-20000μm)、納米激光粒度儀NANOPHOX(測試范圍1-10000nm)、超聲衰減粒度儀OPUS(0.01-3000μm),并有德國及中國工程師在現場為您做的介紹與解答。

      德國新帕泰克的干濕二合一粒度儀HELOS/OASIS,結合干法與濕法測試的雙重優點,分散效果好、測試速度快、性與精度高。

      動態粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎上,提供粒形信息,為以顆粒形態為表征的行業與分析研究院提供了包括球形度、長寬比、纖維長度等更多參數的信息。

      納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影響,測試濃度高,性好,同時提供穩定性分析,是分析納米粉體的*選擇。

      誠摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流!

       

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